duv和euv技术区别[朗读]

duv是深紫外线（deep ultraviolet lithography），euv是极深紫外线（extreme ultraviolet lithography）。从制程范围来看，duv基本上只能做到25nm，intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。只有euv能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。